蔡佳慧

普達特科技（00650）發(fā)布公告，公司已從一個客戶處獲得一臺半導體高溫硫酸清洗（高溫SPM）設備（該設備）的樣機訂單。該設備目前已處于組裝與測試階段，前期已通過客戶的多項工藝性能測試與馬拉松測試，部分指標達到國際領先水平，顯著推進了國產(chǎn)高溫SPM清洗設備打破海外壟斷的進程。該樣機訂單的收入暫未確認。據(jù)董事經(jīng)作出一切合理查詢后所深知、盡悉及確信，于本公告日期，該客戶及其最終實益擁有人為獨立于公司及其關連人士的第三方。

該設備采用高溫SPM清洗工藝，可覆蓋12英寸晶圓關鍵制程的PR-strip、PostCMP、NiPtremove等多種應用，是業(yè)界公認的高難度濕法工藝，市場目前由海外設備供應商壟斷。公司研發(fā)的該設備，具備國內(nèi)領先、國際一流的高溫控制能力，可覆蓋至190°C的高溫SPM工藝，經(jīng)馬拉松驗證，終端工藝腔體高溫硫酸溫控范圍±2°C，優(yōu)于主要海外供應商的±5°C。該設備通過NiPtremove工藝demo測試，在高挑戰(zhàn)性的工況下取得了與國際基準產(chǎn)品對齊的測試結果。該設備在設計方面，采用了化學供液系統(tǒng)與工藝腔室集成化的設計，保證了更大的工藝兼容性與靈活的應用配置，可為客戶提供更具綜合競爭力與性價比的解決方案。

下一階段，公司將致力于完成該設備的交付與驗證，并擴大客戶在高端應用領域?qū)瘓F的設備的采用，充分發(fā)揮公司技術團隊在半導體濕法技術方面的優(yōu)勢，解決行業(yè)痛點，提高客戶效率，繼續(xù)推動高端半導體設備國產(chǎn)化。