陳文姝

　　兰州和乌鲁木齐之前都只有一条跑道，因起降架次多，乌鲁木齐一直是国内最繁忙的单跑道机场之一。扩建后可以极大缓解这几座机场的现有压力。

　　经查，陈玉祥丧失理想信念，背弃初心使命，执纪违纪，执法犯法，罔顾中央八项规定精神，热衷于吃喝享乐，长期频繁接受宴请，违规接受旅游、健身等活动安排；无视组织原则，在干部选拔任用中为他人谋取利益并收受财物；违规收受礼品、礼金；违反工作要求，干预和插手司法及执纪执法活动；甘于被“围猎”，把组织赋予的权力当作谋取私利的工具，大搞权钱交易，利用职务便利为他人在企业经营、项目运营等方面谋利，并非法收受巨额财物。

在芯片制造中，光刻機(jī)是最核心的設(shè)備。

而EUV則是制造7nm以下芯片必不可少的設(shè)備，且全球只有ASML一家能夠制造，美國還不允許它賣給中國企業(yè)。

所以制造出國產(chǎn)EUV就相當(dāng)重要了，因?yàn)槿绻麤]有國產(chǎn)EUV，我們的芯片工藝要進(jìn)入7nm以下，幾乎不太可能。

也許能夠多重曝光，用浸潤式光刻機(jī)，也能夠制造出7nm以下芯片，但多重曝光會顯著降低良率，提高成本，實(shí)際上是無法大規(guī)模量產(chǎn)商業(yè)化的。

目前ASML的EUV光刻機(jī)，其采用的方式是LPP路線，即用高能激光器轟擊錫滴產(chǎn)生等離子體，釋放出13.5nm波長的光源，也就是極紫外線。

在這一條路線上，ASML綁定了蔡司、Cymer等等核心企業(yè)，這些核心企業(yè)是全球唯一，無可替代，可以說ASML斷了其它很多企業(yè)的EUV之路。

所以說，如果我們要研發(fā)EUV光刻機(jī)，更好的辦法是彎道超車，或者換道超車。

而近日，有消息指出，目前國內(nèi)的科學(xué)家們其實(shí)發(fā)現(xiàn)，EUV的下一代，可能是采用更高級的光源，比如采用6.7nm或4.4nm的波長光線。

在光刻中，如果光線波長越小，那么其分辨率是越高，越是能夠制造出更先進(jìn)的芯片的。

科學(xué)家們認(rèn)為，如果能夠采用6.7nm和4.4nm的光線，那么其精度比當(dāng)前13.5nm波長高很多，能夠制造的芯片工藝也會先進(jìn)很多。

目前中國科學(xué)家已經(jīng)在嘗試用釓代替錫為材料，激發(fā)出6.7nm波長的光線來。而這種光刻機(jī)的透鏡，則采用鑭和硼。

這樣我們就能夠繞開ASML設(shè)的坎，繞開蔡司、Cymer等等核心企業(yè)，走出一條屬于中國的光刻機(jī)之路來。

不過，困難也有很多，比如波長較短時，反射率較差，要收集這些光線，相當(dāng)困難。另外波長更短，能量分布在更少的光子上，出錯的幾率也會增加。

但不可否認(rèn)的是，如果這一切真的實(shí)現(xiàn)了，那么國產(chǎn)光刻機(jī)，將跳過EUV,進(jìn)入更高一個層次，那么卡住我們的光刻機(jī)，將再也不是問題了，反而全球的芯片廠，都要找我們買光刻機(jī)了。

當(dāng)然，技術(shù)路線從理論到商用，中間會有一個漫長的過程，大家要有耐心一點(diǎn)，同時最終能不能商用落地，也不一定，但必須要不斷的研究，才有可能最終商用，所以大家多些支持鼓勵，少些嘲諷，你覺得呢？

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