尋找細(xì)小的缺陷需要一系列的波長(zhǎng)。
百萬分之十(DPPM)級(jí)的缺陷檢測(cè)要求正在推動(dòng)代工廠和OSAT檢測(cè)設(shè)備分辨率和產(chǎn)量的提升。然而,滑移、劃痕和微裂紋等缺陷仍然困擾著現(xiàn)有的光學(xué)檢測(cè)方法。
這些缺陷的尺寸范圍從納米到毫米不等,其中一些缺陷對(duì)于可見光波長(zhǎng)來說太小。雖然X射線和紅外線由于波長(zhǎng)較短能夠成功檢測(cè)這些狹窄的缺陷,但這些方法速度較慢。晶圓圖分析也是如此,可能需要數(shù)周甚至數(shù)月才能識(shí)別劃痕。
劃痕很難發(fā)現(xiàn),但很重要,因?yàn)樗粌H會(huì)導(dǎo)致晶圓破損,還可能導(dǎo)致芯片失效。根據(jù)晶圓廠的檢測(cè)預(yù)算,劃傷的晶圓可能要到晶圓級(jí)測(cè)試才能發(fā)現(xiàn)。同樣,OSAT有限的檢測(cè)預(yù)算可能會(huì)導(dǎo)致組裝帶有微裂紋的芯片,最終可能在封裝級(jí)測(cè)試中失效,或者在幾個(gè)月后在最終客戶的系統(tǒng)中失效。
早期檢測(cè)有助于減少缺陷源,并減少受影響晶圓/芯片的報(bào)廢,從而進(jìn)一步降低制造成本。未被發(fā)現(xiàn)的問題可能會(huì)影響下游工藝步驟,甚至在最壞的情況下,在現(xiàn)場(chǎng)暴露出來。所采用的檢測(cè)策略最終在于平衡擁有成本和缺陷逃逸風(fēng)險(xiǎn)。但隨著對(duì)已知良好芯片的需求不斷增長(zhǎng),以及成本壓力的不斷增加,工廠團(tuán)隊(duì)現(xiàn)在面臨著艱難的選擇:選擇哪種檢測(cè)工具以及分配多少檢測(cè)時(shí)間。
滑移和劃痕
晶體位錯(cuò)(又稱滑移)和劃痕會(huì)影響后續(xù)的晶圓制造步驟,這些步驟需要在微觀和近原子層面實(shí)現(xiàn)平面度。如果位錯(cuò)足夠大,光學(xué)成像方法可以檢測(cè)到它們。X射線衍射成像在檢測(cè)較小位錯(cuò)時(shí)成功率更高。然而,這種方法需要更多時(shí)間,因此更適合低采樣率的情況。同樣,用于識(shí)別劃痕的晶圓測(cè)試圖分析在制造流程的后期進(jìn)行,因此無法有效解決任何重大偏差。
晶體位錯(cuò)會(huì)在晶錠生長(zhǎng)或晶圓處理過程中發(fā)生。這些垂直缺陷表現(xiàn)為晶格的滑移,難以檢測(cè)。缺陷最初可能很小,例如晶圓邊緣的缺口或晶體結(jié)構(gòu)中的滑移。隨后,由于隨后的熱波動(dòng),這些缺陷的長(zhǎng)度和深度可能會(huì)增加。
數(shù)周后,滑移缺陷可能導(dǎo)致晶圓破損或其他工藝異常??梢姽獠ㄩL(zhǎng)難以檢測(cè)到滑移。X射線更容易檢測(cè)到,因?yàn)榛茣?huì)產(chǎn)生氣隙,其衍射方式與硅或化合物半導(dǎo)體材料不同。
圖1:光學(xué)圖像(左)和X射線衍射圖像(右)之間的差異。X射線圖像中晶體缺陷的影響和范圍更為明顯。資料來源:布魯克
布魯克復(fù)合半導(dǎo)體業(yè)務(wù)產(chǎn)品經(jīng)理JohnWall表示:“借助X射線衍射,我們可以檢測(cè)到從晶圓邊緣延伸數(shù)厘米的滑移等缺陷。位錯(cuò)缺陷通常是由晶圓的沖擊損傷引起的。雖然這些缺陷可能發(fā)生在晶圓的任何位置,但它們主要發(fā)生在靠近處理邊緣的地方。然后,在熱處理過程中,這些位錯(cuò)會(huì)從初始缺陷處擴(kuò)散開來。這會(huì)導(dǎo)致位錯(cuò)長(zhǎng)度方向的表面破壞。顯然,這會(huì)影響光刻和圖案化,因?yàn)榫A不再是平面的?!?/p>
查找劃痕
晶圓廠人員或設(shè)備都可能造成晶圓劃痕。前者是指有人用晶圓棒從晶圓舟皿中取出晶圓。由此產(chǎn)生的劃痕可長(zhǎng)可短,并且出現(xiàn)在隨機(jī)位置,表現(xiàn)為不規(guī)則的波浪形。相比之下,設(shè)備通常會(huì)產(chǎn)生直線或弧線狀劃痕,并且它們出現(xiàn)在同一區(qū)域。
圖2:200毫米半導(dǎo)體晶圓上人為造成的劃痕。來源:Microtronic
圖3:機(jī)器人晶圓搬運(yùn)器在整個(gè)晶圓(300毫米)上彎曲造成的劃痕。來源:Microtronic
使用自動(dòng)光學(xué)成像(AOI)技術(shù)查找劃痕存在一些挑戰(zhàn)。
OntoInnovation研究員WooYoungHan表示:“傳統(tǒng)的缺陷檢測(cè)方法通常使用圖像減影來識(shí)別掃描之間的差異或異常。然而,這種方法難以識(shí)別低對(duì)比度缺陷,因?yàn)檫@些缺陷更難檢測(cè)。晶圓上的細(xì)小劃痕或不規(guī)則之處等缺陷可能與背景對(duì)比度極低,因此很難識(shí)別?!?/p>
提高晶圓檢測(cè)率并在更多工藝步驟之間插入光學(xué)檢測(cè)有助于克服這些挑戰(zhàn)。
Microtronic應(yīng)用總監(jiān)ErrolAkomer表示:“光學(xué)劃痕檢測(cè)的主要因素是用于最大化缺陷與周圍環(huán)境對(duì)比度的照明?!薄爱?dāng)前工藝步驟的劃痕最好使用暗場(chǎng)(離軸)組件進(jìn)行檢測(cè),而先前工藝步驟的劃痕則需要更多的明場(chǎng)(同軸)照明。根據(jù)我們的宏觀檢測(cè)經(jīng)驗(yàn),最好在工藝步驟之間盡可能頻繁地進(jìn)行100%檢測(cè)。同軸/離軸照明的組合可用于檢測(cè)當(dāng)前或先前工藝步驟中的劃痕缺陷。如果在當(dāng)前步驟檢測(cè)到劃痕,晶圓廠可以最大限度地減少偏差并返工受影響的材料。如果劃痕是在先前步驟中檢測(cè)到的,我們建議在有缺陷的芯片周圍設(shè)置保護(hù)帶,并以數(shù)字方式將劃痕芯片及其相鄰芯片標(biāo)記為“失敗”。這可以最大限度地減少客戶系統(tǒng)中的測(cè)試逃漏和可靠性故障。”
晶圓測(cè)試圖分析為工程團(tuán)隊(duì)提供了另一個(gè)查找劃痕的機(jī)會(huì)。每個(gè)芯片代表一個(gè)像素,并以不同的“顏色”表示合格/不合格。每個(gè)晶圓上的芯片越多,檢測(cè)就越容易。試想一下,一塊300毫米晶圓上有90個(gè)芯片,而一塊300毫米晶圓上有2446個(gè)芯片。在前者中,150毫米的劃痕可能包含6個(gè)芯片,而在后者中則可能包含53個(gè)芯片。
圖4:同一劃痕對(duì)不同晶圓片數(shù)的影響差異。來源:SiliconEdge
在過去的十多年里,工程師們?cè)絹碓蕉嗟厥褂没跈C(jī)器學(xué)習(xí)的算法來分析晶圓測(cè)試圖。這些方法需要分析各種各樣的晶圓圖圖像。從晶圓圖分析中檢測(cè)劃痕是一項(xiàng)挑戰(zhàn),因?yàn)閯澓酆苋菀妆蛔R(shí)別為其他類型的缺陷。
“我們的分析分兩個(gè)階段進(jìn)行,”泰瑞達(dá)機(jī)器學(xué)習(xí)主管金宇解釋說?!笆紫龋覀儗⒕A分為四類。之后,我們?cè)偌?xì)分成更小的類別,例如中心、邊緣和不同類型的劃痕。劃痕可能遍布整個(gè)晶圓,也可能只是局部區(qū)域的微小劃痕。這就是我們構(gòu)建樹狀分類結(jié)構(gòu)的原因。我們之所以先識(shí)別四大類,然后再進(jìn)行子類劃分,是因?yàn)槲覀儼l(fā)現(xiàn)邊緣局部劃痕和劃痕,以及局部劃痕和中心劃痕之間存在一些交叉?!?/p>
圖5:使用先進(jìn)的機(jī)器學(xué)習(xí)算法進(jìn)行實(shí)時(shí)晶圓圖分析,以對(duì)缺陷進(jìn)行分類。資料來源:Teradyne
芯片切割
和晶圓/芯片處理過程中可能會(huì)產(chǎn)生芯片碎片和裂紋。缺陷尺寸從毫米到微米不等。后續(xù)工藝步驟和系統(tǒng)使用過程中的溫度升降會(huì)導(dǎo)致缺陷擴(kuò)展。這可能導(dǎo)致零時(shí)故障,甚至最終導(dǎo)致現(xiàn)場(chǎng)故障。
缺陷的產(chǎn)生和檢測(cè)可能需要數(shù)周甚至數(shù)月的時(shí)間。為了最大限度地減少這種延遲,工程團(tuán)隊(duì)正在增加更多檢測(cè)步驟,并將采樣率提高到100%。他們還采用了新的工具。成像技術(shù)的最新改進(jìn)實(shí)現(xiàn)了更高的分辨率和更快的吞吐量。
Microtronic首席執(zhí)行官ReinerFenske表示:“一項(xiàng)重大改進(jìn)是在整個(gè)生產(chǎn)流程的多個(gè)步驟中,為每片晶圓提供高分辨率圖像。這使得用戶能夠查看生產(chǎn)線上不同點(diǎn)的晶圓圖像,以確定良率損失的根本原因,或找出生產(chǎn)線中的某個(gè)環(huán)節(jié)?!薄袄?,有缺口的晶圓可能在熱處理過程中斷裂,但在早期步驟中卻顯示出邊緣損壞的跡象?!?/p>
圖6:成像過程中發(fā)現(xiàn)的晶圓碎片。來源:Microtonic
芯片分離后裂紋
在過去十年里,組裝廠對(duì)微小缺陷的敏感度尚不及晶圓廠。然而,高性能移動(dòng)和汽車設(shè)備對(duì)最低DPPM的持續(xù)需求,使得在組裝過程中發(fā)現(xiàn)越來越小的缺陷成為必要。光學(xué)檢測(cè)方法仍然是OSAT(封測(cè)代工廠)分離后的標(biāo)準(zhǔn)步驟。但現(xiàn)在,即使5μm或1μm的裂紋也有可能被漏檢。
芯片切割完成后,需要對(duì)芯片的六個(gè)側(cè)面(頂部、底部和邊緣)進(jìn)行檢測(cè)。將晶圓切割成芯片可能會(huì)沿側(cè)壁(即邊緣)產(chǎn)生芯片級(jí)裂紋。此外,此步驟還會(huì)加劇晶圓生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的亞表面裂紋。裂紋會(huì)沿著水平或垂直方向出現(xiàn)。
光學(xué)成像一直是裂紋檢測(cè)的主流波長(zhǎng)。但較短的波長(zhǎng)(例如X射線和紅外線)在檢測(cè)較小裂紋(>=10微米)和表面以下的裂紋方面更具優(yōu)勢(shì)。直到最近,紅外成像方法還只能支持采樣。如今,儀器儀表和自動(dòng)化技術(shù)的進(jìn)步支持更高的生產(chǎn)時(shí)間(例如每小時(shí)50,000個(gè)單元),這使得OSAT廠商能夠使用紅外工具檢測(cè)所有芯片。
“對(duì)于約100微米的標(biāo)準(zhǔn)缺陷,客戶會(huì)使用六面光學(xué)檢測(cè)。越來越多的客戶要求檢測(cè)微尺度缺陷,例如約10微米的裂紋尺寸,”Cohu公司檢測(cè)和計(jì)量產(chǎn)品營(yíng)銷經(jīng)理Pierre-AlexandreJay說道?!?0微米裂紋尺寸的難點(diǎn)在于,由于缺陷與器件粗糙度處于同一尺度,因此容易出現(xiàn)過度拒收?!?/p>
Jay解釋說,紅外成像更容易檢測(cè)到這種尺寸的缺陷,并且過剔除率更低。此外,這些波長(zhǎng)可以檢測(cè)到光學(xué)成像無法檢測(cè)到的內(nèi)部裂紋。
圖7:光學(xué)與紅外對(duì)微裂紋和內(nèi)部裂紋的檢測(cè)能力比較。來源:Cohu
雖然單片化主要產(chǎn)生水平裂紋,但在晶圓制造過程中,各種機(jī)械應(yīng)力可能會(huì)引入垂直裂紋和內(nèi)部裂紋。根據(jù)晶圓檢測(cè)策略的不同,這些裂紋可能無法被檢測(cè)到。因此,在組裝過程中篩查此類缺陷的需求日益增長(zhǎng),尤其是在汽車和高端移動(dòng)設(shè)備領(lǐng)域。
這些垂直裂紋的厚度在10μm到1μm之間,在此范圍內(nèi),光學(xué)方法的檢測(cè)能力開始下降。比較光學(xué)成像和紅外成像,紅外成像的優(yōu)勢(shì)有兩方面。首先,它更容易檢測(cè)到小于或等于5μm的缺陷。其次,借助先進(jìn)的計(jì)算機(jī)視覺技術(shù),可以將過剔除率降低一個(gè)數(shù)量級(jí)。
圖8:光學(xué)與紅外檢測(cè)垂直微裂紋的能力比較。來源:Cohu
“我們的工具采用光學(xué)方法,可以檢測(cè)到最小5微米的裂紋。但紅外方法可以輕松檢測(cè)到,因?yàn)樗雌饋硎呛诎椎?,”Cohu的Jay解釋說?!霸谶@個(gè)波長(zhǎng)下,它可以檢測(cè)到由裂紋引起的衍射,而裂紋是由空氣而不是硅引起的?!?/p>
結(jié)論
晶圓劃痕、晶圓內(nèi)部晶體缺陷以及芯片級(jí)裂紋可能難以辨別。但為了滿足10DPPM逃逸率的嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn),工程團(tuán)隊(duì)需要在檢測(cè)技術(shù)、檢測(cè)頻率和晶圓圖分析方面做出明智的選擇。
這些選擇需要考慮總銷售成本(COGS)。由于器件成本為0.10美元,因此等到晶圓級(jí)測(cè)試再進(jìn)行或許是更合適的選擇。但隨著多個(gè)行業(yè)對(duì)已知良好裸片的需求日益增長(zhǎng),每個(gè)DPPM都至關(guān)重要。
可見光分辨率和速度的不斷提升,使其在滑落、劃痕和裂紋的檢測(cè)中繼續(xù)發(fā)揮作用。然而,紅外和X射線成像的應(yīng)用正在不斷增加,因?yàn)檠苌浞治瞿軌蚪沂竞诎讏D像中的細(xì)微裂紋。
*聲明:本文系原作者創(chuàng)作。文章內(nèi)容系其個(gè)人觀點(diǎn),我方轉(zhuǎn)載僅為分享與討論,不代表我方贊成或認(rèn)同,如有異議,請(qǐng)聯(lián)系后臺(tái)。
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