在芯片制造領(lǐng)域,光刻膠是和光刻機(jī)配套的關(guān)鍵材料。簡單說,光刻膠要涂在硅片表面,光刻機(jī)工作時(shí),它會(huì)通過光敏反應(yīng)把芯片圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。光刻膠分不同工藝,像g線、i線、KrF、ArF、EUV這些類型,對應(yīng)的光刻機(jī)不同,做出的芯片精度也不一樣。
目前全球光刻膠市場基本被日本企業(yè)壟斷,占了70%以上份額。尤其是高端的ArF、EUV光刻膠,日本企業(yè)市場占有率超過90%,EUV光刻膠幾乎只有日本能生產(chǎn)。
咱們國內(nèi)的情況不太樂觀,光刻膠自給率大概只有5%到10%,90%依賴進(jìn)口。更關(guān)鍵的是,國內(nèi)能生產(chǎn)的光刻膠最高到KrF階段,ArF還在測試中,對應(yīng)的芯片工藝大概是65到40納米,EUV光刻膠更是連影子都沒見著,差距確實(shí)不小。
不過最近有個(gè)好消息:國產(chǎn)EUV光刻膠有突破了。清華大學(xué)化學(xué)系許華平教授團(tuán)隊(duì)開發(fā)出一種新型EUV光刻膠,用的是聚碲氧烷材料。這種光刻膠在吸收效率、反應(yīng)機(jī)制和缺陷控制等方面,比現(xiàn)有的EUV光刻膠更出色。相關(guān)成果已經(jīng)發(fā)表在《科學(xué)進(jìn)展》期刊上,還得到了國家自然科學(xué)基金重點(diǎn)項(xiàng)目的支持。
當(dāng)然,從實(shí)驗(yàn)室到量產(chǎn)還有段路要走?,F(xiàn)在只是證明了這種新型光刻膠在技術(shù)上更優(yōu),但還沒進(jìn)入大規(guī)模商用階段。不過這個(gè)突破意義挺大——至少說明咱們在EUV光刻膠領(lǐng)域有了自己的技術(shù)儲(chǔ)備,未來可能推動(dòng)下一代光刻材料的發(fā)展,讓中國在這個(gè)領(lǐng)域不再完全受制于人。
以前EUV光刻膠被日本企業(yè)卡著脖子,美國雖然提供些原料,但核心技術(shù)不在咱們手里?,F(xiàn)在清華團(tuán)隊(duì)這一步,雖然只是開始,但至少讓咱們看到了自主突破的希望。接下來如果能順利量產(chǎn),不僅能減少對進(jìn)口的依賴,還能在芯片制造的關(guān)鍵材料上掌握更多話語權(quán)。
總的來說,這次突破是個(gè)積極信號(hào)。雖然離真正用上國產(chǎn)EUV光刻膠還有距離,但至少說明咱們的科研團(tuán)隊(duì)在啃硬骨頭,而且啃出了點(diǎn)名堂。未來能不能徹底打破壟斷,還得看技術(shù)轉(zhuǎn)化和產(chǎn)業(yè)化的速度,但至少現(xiàn)在,咱們有理由對國產(chǎn)光刻膠的發(fā)展多幾分期待。
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